Nitride Semiconductors : Handbook on Materials and Devices (2003. XXII, 664 p. w. 387 figs. 24,5 cm)

Nitride Semiconductors : Handbook on Materials and Devices (2003. XXII, 664 p. w. 387 figs. 24,5 cm)

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  • 製本 Hardcover:ハードカバー版/ページ数 600 p.
  • 商品コード 9783527403875

Description


(Text)
Halbleiter-Bauelemente auf Silizium-Basis finden seit Jahren ein breites Einsatzfeld. Diese metallischen Halbleiter sind gut erforscht und technologisch erschlossen. Nun hat eine neue Materialgruppe auf sich aufmerksam gemacht: Keramische Halbleiter auf Nitrid-Basis sind aufgrund ihrer optischen und elektronischen Eigenschaften zum aktuellen Gegenstand der Forschung geworden. Für die Industrie eröffnen sich neue Anwendungen im Bereich der Fotosensoren, als moderne Lichtquellen oder als Bauteile in der Elektronik.Die vorliegende Sammlung längerer Übersichtsartikel ermöglicht ein systematisches und tiefgehendes Studium der Thematik. In kompakter und umfassender Form sowie auf hohem und aktuellem Niveau werden Informationen über die physikalischen Grundlagen und neueste Erkenntnisse zu diesem Materialsystem bereitgestellt. Die Beiträge befassen sich mit den physikalischen Vorgängen bei der Herstellung, d.h. dem Wachstum dieser Halbleiter, der atomaren Struktur und den darauf beruhenden Eigenschaften sowie zukünftigen industriellen Anwendungen. Ein Buch von großer Relevanz für alle, die in der angewandten Materialforschung und der Halbleiterindustrie tätig sind.
(Text)
Semiconductor components based on silicon have been used in a wide range of applications for some time now. These elemental semiconductors are now well researched and technologically well developed. In the meantime the focus has switched to a new group of materials: ceramic semiconductors based on nitrides are currently the subject of research due to their optical and electronic characteristics. They open up new industrial possibilities in the field of photosensors, as light sources or as electronic components.
This collection of review articles provides a systematic and in-depth overview of the topic, on both a high and current level. It offers information on the physical basics as well as the latest results in a compact yet comprehensive manner. The contributions cover the physical processes involved in manufacture, from semiconductor growth, via their atomic structures and the related characteristics right up to future industrial applications. A highly pertinent book for anyone working in applied materials research or the semiconductor industry.
(Author portrait)
Jörg Neugebauer is Director of the Computational Materials Design Department at the Max-Planck-Institute for Iron Research. Since 2003 he is Chair of Theoretical Physics at the University of Paderborn. At the Ruhr-University Bochum he helds positions as Honorary Professor and Director of the advanced study group 'Modeling' at the Interdisciplinary Center for Advanced Materials Simulation (ICAMS). His research interests cover Surface and Defect Physics, ab initio scale-bridging computer simulations, ab initio based Thermodynamics and Kinetics, and the theoretical study of epitaxy, solidification, and microstructures.