目次
半導体の物性
ＣＭＯＳ ＬＳＩの紹介
Ｓｉ結晶の製作
リソグラフィ
ＣＭＯＳ ＬＳＩのプロセス
半導体デバイス
ＤＲＡＭ
フラッシュメモリ
その他のメモリ
ロジックＬＳＩ〔ほか〕
著者等紹介
加藤俊夫［カトウトシオ］
１９３６年大阪府に生まれる。１９６０年東京工業大学物理学科卒業。同年ソニー株式会社入社。各種トランジスタの開発、ＣＣＤイメージセンサのプロセス担当、技術部長、パッケージ技術部長、メモリ事業部長、長崎工場長などを歴任。１９９６年ソニー株式会社退社、半導体関係の技術コンサルタントを始める。２００１年サクセスインターナショナル株式会社設立、取締役。２００８年株式会社プレスジャーナル編集顧問（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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