出版社内容情報
■Ｂ５版全段組み 上製函入
「カーボン時代」の21世紀薄膜
19年の基盤技術に加え、ナノテク、有機バイオ、カーボンナノストラクチャーを満載。
発刊にあたって
最近の各産業における技術の発展はめざましいものがあるが、このなかにあって薄膜技術の占める役割はきわめ
て大きく、またその重要性はますます増大しており、薄膜技術がなくては多くの産業が成り立たないといってもよいだ
ろう。
このため薄膜に関係した専門的な会議が数多く開かれ、技術報告も多数出されている。しかし、これらは専門化、
細分化されているため、共通した技術がたくさんあるにもかかわらず、全体をみて必要な技術をとりこんでいくのが難
しいのが現状である。
こうした状況にあって、重要な薄膜技術および評価技術、とくに広い分野の各種産業への応用を分かりやすく、すぐ
役に立つような実務的な感覚で記述したハンドブックが必要であると考え、高度の学識と経験をもつ多くの専門家の
ご協力を頂いて、１９９５年に(株)エヌ・ティー・エスから「薄膜作製応用ハンドブック」を発刊した。幸いにして、このハ
ンドブックは好感をもって迎えられ、短期間で在庫がなくなり増刷を依頼されるほどの好評を博した。
このような事情と、発刊後８年以上経過し、技術内容も変化し高度化してきていることを考慮し、今回新たに新訂版
を作ることにした。新しい技術内容を盛り込むことはもちろんであるが、編集委員の方々とともに使いやすさという観
点から全体を見直し、構成や項目も一新した。この意味で、本書はいままでの編集の経験を生かしながら、新しいハ
ンドブックを目指しているといってもよいだろう。また本書では、監修者と編集委員がすべての原稿を念入りにチェッ
クし、必要があれば原稿を書き直して頂いており、より読みやすく、役に立つハンドブックになっているものと思う。
このような特色をもつ本書は、薄膜の作製や評価、応用にたずさわる方々に十分役に立つものと信じ、ひろく活用さ
れることを期待する次第である。
２００３年３月
監修者 權田 俊一
→『21世紀版 薄膜作製応用ハンドブック』発刊特別対談 權田俊一・八瀬清志
編集部からひとこと
權田俊一先生の監修による薄膜のハンドブックは19年の間に実に3度にわたる改訂という歴史を持っています。
1984年「薄膜の作製・評価とその応用技術ハンドブック」を皮切りに、1995年「薄膜作製応用ハンドブック」、そしてこ
の「21世紀版 薄膜作製応用ハンドブック」と、毎回先端技術を取り入れた大改訂が施され、いずれも高評を博し続
けてきました。とりわけ今回の21世紀版では進境著しい有機バイオ分野、ナノテク、そしてナノチューブに代表される
カーボンナノストラクチャー分野の充実が注目されます。また巻末には70頁におよぶ付録（キーワード索引、略語索
引、化学式索引、評価方法と評価対象の一覧）を加え、読者の便宜を図りました。
内容目次
●口絵 18頁
1編 薄膜材料の特性と特徴
1章 薄膜の特徴と特性
1節 薄膜とは 權田俊一
2節 薄膜の特徴 權田俊一
3節 薄膜の特性と作製方法 權田俊一
4節 薄膜の特性と評価 權田俊一
2章 薄膜材料の電気特性
1節 電気伝導 勝本信吾
2節 磁界効果 前田 甫
3節 熱電効果 山本 淳
4節 ピエゾ抵抗 大村八通
3章 薄膜材料の磁気特性
1節 まえがき 宮﨑照宣
2節 磁性体の分類および磁気的性質 宮﨑照宣
3節 軟磁性薄膜 宮﨑照宣
4節 硬磁性薄膜 宮宮﨑照宣
5節 スピンエレクトロニクス薄膜 宮﨑照宣
4章 薄膜材料の光学特性
1節 透過、反射 吉田貞史
2節 吸収 市野邦男／小林洋志
3節 発光 小林洋志／市野邦男
4節 電気光学効果 山田 実
5節 磁気光学効果 片山利一
6節 光伝導・光起電力 金光義彦／近藤道雄
5章 薄膜材料の力学特性
1節 応力・ひずみ 生地文也
2節 硬さ・強度 金沢憲一／廣川 啓
3節 付着力 稲川幸之助
4節 薄膜トライボロジー 三宅正二郎
6章 薄膜材料の化学特性
1節 表面反応 藤田大介
2節 光触媒 垰田博史
3節 耐食性、腐食性 高井 治
4節 親水性、はっ水性 辻井 薫
2編 薄膜の作製と加工
1章 基板と表面処理
1節 金属基板 坂入正敏
2節 半導体基板（Si, GaAs等・-・族化合物, SiC）岩崎 裕
3節 絶縁体基板
1.ガラス基板 中尾泰昌
2.酸化物単結晶基板-サファイア（ZnO、ペロブスカイト）宮澤信太郎／米澤卓三
3.酸化物基板--マグネシア（MgO） 庭野一久
4節 プラスチック基板 千葉 潔
2章 PVD法
1節 真空蒸着法 吉田貞史
2節 分子線エピタキシー法（MBE法） 朝日 一
3節 スパッタリング法 大脇健史／多賀康訓
4節 イオン化蒸着法 高岡義寛
5節 パルスレーザー堆積（レーザアブレーション）法 大久保勇男／鯉沼秀臣
3章 CVD法
1節 熱CVD法
1.熱CVDの原理 碓井 彰
2.シリコン系半導体膜 室田淳一／櫻庭政夫
3.金属・シリサイド膜 依田 孝
4.金属窒化膜 大下祥雄
5.絶縁膜 佐藤淳一
2節 ALE法
1.ALE法の原理 伊藤信衛／片山雅之
2.ALE法によるアルミナ/チタニア積層膜の形成 片山雅之／伊藤信衛
3.LSI用膜 武藤勝彦
3節 プラズマCVD法
1.プラズマCVD法および光CVD法 宮崎誠一
2.アモルファスおよび微結晶シリコン系薄膜 宮崎誠一
3.シリコン/酸化膜及びlow-K膜の成膜 辰巳 徹
4節 MOCVD法
1.MOCVD法の原理 福井孝志
2.III-V族 福井孝志
3.II-VI族 藤田静雄
4.酸化物 吉田政次
4章 液相成長法
1節 液相エピタキシー法 助川德三／田中 昭
2節 種子結晶基板製作 助川德三／田中 昭
5章 塗布・ゾル-ゲル法
1節 塗布法 永嶋慎二
2節 インクジェット塗布法 森井克行／下田達也
3節 ゾル-ゲル法による機能性薄膜の作製 峠 登
4節 めっき法 逢坂哲彌／尾上貴弘
6章 ナノ構造作製法
1節 ナノ構造作製法の原理 落合幸徳
2節 MBEによる自己形成量子ドット 西 研一
3節 フォトニック結晶 野田 進
7章 有機・高分子・生体関連薄膜作製法
1節 ウェット作製プロセス
1.スピンコート、LB 白鳥世明
2.電解重合法 髙嶋 授
3.交互吸着法 一ノ瀬泉
2節 ドライ作製プロセス
1.蒸着法 小間 篤
2.蒸着重合 高橋善和
3節 ソフトマテリアルの自己組織化
1.金－チオール自己組織化膜 玉田 薫
2.低分子（合成脂質系） 清水敏美
3.自己組織化による高分子薄膜のパターン化 下村政嗣
4.タンパク質の二次元結晶化 山下一郎
8章 パターン化技術
1節 リソグラフィ 上野 巧
2節 レジスト 上野 巧
3節 ウエットエッチング 黒木幸令
9章 薄膜の加工/改質技術
1節 半導体CMP技術 林 喜宏
2節 再結晶・アニール 森本佳宏
3節 プラズマエッチング技術 寒川誠二
4節 レーザ加工・改質 矢部 明
5節 Ｘ線（放射光）・電子線加工・改質 鷲尾方一／加藤隆典／三浦喬晴／佐々木隆
6節 ビーム加工 松井真二
7節 STM加工
1.無機物 松本和彦
2.有機物 山田啓文／松重和美
3編 薄膜・表面・界面の分析と評価
1章 薄膜・表面・界面の分析・評価
1節 電子線 田中信夫
2節 イオンビームによる組成分析 城戸義明
3節 光 岡本 紘
4節 SOR光 福島 整
5節 薄膜のＸ線評価 松井純爾
6節 XPS, UPS 堂前和彦
7節 走査プローブ顕微鏡 森田清三
2章 薄膜分析・評価対象各論
1節 膜厚分析 橋本 満
2節 組成分析 大岩 烈／田中彰博
3節 形態分析 尾浦憲治郎／本多信一
4節 結晶性－RHEED法を中心として－ 堀尾吉已
5節 化学結合状態 田中彰博
6節 欠陥・応力・ひずみ・付着力 北村隆行
7節 薄膜の表面界面制御と信頼性 多賀康訓
4編 薄膜技術の応用と展望
1章 半導体デバイス
1節 LSI
1.MOSFET用薄膜の応用と展望 最上 徹
2.ゲート酸化膜 鳥海 明
3.メモリセル用薄膜 -DRAM用キャパシタ薄膜 稗田克彦
4.フラッシュメモリー用トンネル絶縁膜 小澤良夫
5.FeRAM用キャパシタ薄膜 山川晃司／齋藤好昭
6.メモリセル用薄膜 -MRAM 齋藤好昭／小澤良夫／山川晃司
7.イオン注入 長井宣夫
8.SOI 小椋厚志
2節 化合物電子デバイス/量子効果デバイス
1.HEMT（高電子移動度トランジスタ） 三村高志
2.ヘテロ接合バイポーラトランジスタ（HBT）本城和彦
3.量子効果素子 粟野祐二
2章 光部品
1節 光学多層膜光部品
1. 反射防止膜 岡田憲明
2.ミラーおよびフィルター 白井 健
3.光学多層膜の応用例および評価方法 長塚 淳
2節 光導波路デバイス
1.無機光導波路デバイス 丸野 透
2.光部品 丸野 透
3節 発光ダイオード 柴田直樹
4節 半導体レーザ
1.III-V族半導体レーザ 野村康彦
2.青紫色半導体レーザ 仁道正明
5節 CCD・イメージセンサ 寺西信一
3章 ディスプレイ
1節 薄膜ELディスプレイ 田中省作
2節 LCD
1.アモルファスSiTFT 鈴木幸治
2.多結晶Si TFT 小西信武／波多野睦子
3.PDP 別井圭一
4.透明導電膜－ITOを中心に－ 太田裕道／細野秀雄
5.FED 伊藤順司
4章 記録
1節 磁気記録用薄膜の応用と展望 岡部明彦
2節 CD・DVD・ROM 山本眞伸
3節 書換え型CD・DVD 赤平信夫
4節 近接場記録 富永淳二
5節 蒸着テープ 小野寺誠一
6節 光磁気ディスク 今井 奨／太田憲雄
5章 センサ
1節 ガスセンサ 山添 曻／酒井 剛
2節 力学センサ 前中一介
3節 磁気センサ 野々村裕
4節 赤外線センサ 木股雅章
5節 匂いセンサ 中本高道
6節 バイオ・酵素センサ 民谷栄一／森田資隆
6章 マイクロマシン
1節 マイクロマシン技術 江刺正喜
2節 マイクロマシンと薄膜の機械的物性 田畑 修
3節 マイクロアクチュエータとその応用 藤田博之
4節 マイクロ成形応用 服部 正
7章 環境エネルギー
1節 シリコン太陽電池 津田信哉
2節 CIS系化合物太陽電池 櫛屋勝巳
3節 色素増感太陽電池 荒川裕則
4節 燃料電池 河原和生
5節 光触媒 垰田博史
6節 選択透過膜
1.選択透過無機膜 諸岡成治／草壁克己
2.有機高分子膜 岡本健一
7節 親水・撥水膜 大脇健史／多賀康訓
8節 金属酸化物多孔体膜 藤川茂紀／黄 建国／国武豊喜
8章 有機バイオデバイス
1節 有機発光素子
1.有機薄膜発光ダイオード 筒井哲夫
2.有機固体レーザ 谷口彬雄
2節 導電性高分子薄膜
1.ポリアセチレン 赤木和夫
2.ポリビニルカルバゾール類 和田達夫
3.ポリアニリン 金藤敬一
4.ポリジアセチレン 松田宏雄
3節 有機トランジスタ
1.π共役低分子 堀田 収
2.π共役高分子 小野田光宣／多田和也
3.デバイス評価・応用 工藤一浩
4節 バイオデバイス
1.光電子機能DNA膜 雀部博之／小山珠美
2.DNAチップ 馬場嘉信
3.マイクロ化学デバイス 北森武彦／佐藤記一
4.光デバイスとしてのバクテリオロドプシン 小山行一
9章 DLC膜とカーボンナノストラクチャー
1節 構造と特徴 平原佳織／飯島澄男
2節 作製と分離・精製方法 小塩 明
3節 電界放出電子源とディスプレイ 齋藤弥八
4節 電子デバイス 二瓶史行
5節 カーボンナノチューブ等による水素吸蔵 曽根田靖
6節 可溶化と生体・医薬への応用 岡﨑俊也／篠原久典
7節 DLC膜 中東孝浩
付録
●キーワード索引
●略語索引
●化学式索引
●評価方法と評価対象一覧
→『21世紀版 薄膜作製応用ハンドブック』発刊特別対談 權田俊一・八瀬清志
著 者
【 監修者 】
權田 俊一
大阪大学名誉教授・福井工業大学宇宙通信工学科教授
【 編集委員 】（五十音順）
小川 正毅
日本電気(株) 研究企画部 エグゼクティブエキスパート
多賀 康訓
(株)豊田中央研究所フェロー・第一特別研究室長
【 編集 協力 委員 】
八瀬 清志
産業技術総合研究所光 技術研究部門副部門長
目次
第１編 薄膜材料の特性と特徴（薄膜の特徴と特性；薄膜材料の電気特性 ほか）
第２編 薄膜の作製と加工（基板と表面処理；ＰＶＤ法 ほか）
第３編 薄膜・表面・界面の分析と評価（薄膜・表面・界面の分析・評価；薄膜分析・評価対象各論）
第４編 薄膜技術の応用と展望（半導体デバイス；光部品 ほか）
著者等紹介
芥川基［アクタガワモトイ］
弁護士
※書籍に掲載されている著者及び編者、訳者、監修者、イラストレーターなどの紹介情報です。
