超ＬＳＩ技術〈１０〉超ＬＳＩ回路とプロセス

西沢 潤一【編】

工業調査会（1986/08発売）

• サイズ B5判／ページ数 324p／高さ 27cm
• 商品コード 9784769310549
• NDC分類 549.8
• Cコード C3055

目次

１　超高速バイポーラＬＳＩ技術
２　記憶用ＩＣの開発
３　ダイナミックＭＯＳメモリ技術―プロセス・デバイス技術を中心として
４　素子分離技術
５　サブミクロンプロセスにおけるドライエッチング技術
６　Ｓｉのマイクロ波プラズマエッチング
７　光励起プロセス―光励起エッチングを中心に
８　メタルシリサイドの形成と評価―ＴｉＳｉ２を中心として
９　メタルシリサイドのＩＣへの応用