SOI Lubistorの物理学と応用

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  • サイズ A5判/ページ数 401p/高さ 21cm
  • 商品コード 9784873546452
  • NDC分類 549.8
  • Cコード C3042

目次

第1部 pn接合デバイスの歴史の概要と近年のデバイス応用例
第2部 SOI Lubistorの物理学とモデルの検討―厚い半導体層のデバイス
第3部 SOI Lubistorの物理学とモデルの検討―薄い半導体層のデバイス
第4部 回路応用
第5部 SOI Lubistorの光学デバイス応用
第6部 試験、評価手段としてのSOI Lubistor
第7部 SOI Lubistorの将来にわたる発展の見通し
第8部 半導体デバイス解析のためのデバイス物理学及び数学のまとめ

著者等紹介

大村泰久[オオムラヤスヒサ]
1949年岡山県生まれ。1975年九州大学大学院工学研究科修士課程応用物理学専攻修了。1975年日本電信電話公社入社、武蔵野電気通信研究所配属。1997年関西大学工学部電子工学科教授。2001年‐2004年関西大学ハイテクリサーチセンター長。2007年関西大学システム理工学部電気電子情報工学科教授。2008年‐2012年関西大学評議員。2010年IEEE Fellow。現在、関西大学システム理工学部教授(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
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