出版社内容情報
最新の中国知的財産権 詳細解説！
中国知財法の中心である特許法、商標法、不正競争防止法及び著作権法について、法令内容、改正動向、重要判例、紛争問題の解決方法等を全般的にわかりやすく解説しています。
日本人になじみの少ない最高人民法院の案例指導制度や司法解釈なども紹介し、企業の実務担当者をはじめ、法律専門家にとっても読み応えのある実務書として、まとめました。
中国知財権の体系的な法令解説から現地専門家しか知りえない最新の実務動向までを網羅し、日本企業が進出から撤退までに必要とする紛争解決ノウハウ等を中国大手法律事務所の知財専門弁護士と日本上場企業の法務知財担当者が日中両面から客観的に解説しました。
目次
第１章 中国知的財産法総論
第２章 商標法
第３章 特許法（専利法）
第４章 著作権法
第５章 不正競争防止法（反不正当競争法）
第６章 中国の司法制度
著者等紹介
馮超［フォンチャオ］
中国北京市出身。中国外交学院国際法学部卒業。法学修士取得。米国デューク大学（ＤＵＫＥ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ）法学修士（ＬＬＭ）取得。２００２～２００４年日本貿易振興機構北京センター入所。知的財産部所属。２０１５～現在天達共和法律事務所シニアパートナー弁護士。２０１７年より中国最高人民法院案例指導基地諮問専門家、中国版権協会常務理事、中華商標協会理事、日本貿易振興機構コンテンツ研究員、国際商標協会ＩＮＴＡ中国委員会委員を兼任
光安徹［ミツヤストオル］
横浜市出身。成城大学法学部卒業。成城大学大学院法学研究科修了。法学修士（ＬＬＭ）取得。１９９２～２０１６年ソニー株式会社法務部門及び知的財産部門を歴任。Ｓｏｎｙ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ｈｏｎｇ Ｋｏｎｇ Ｌｔｄ．に４年間駐在。Ｓｏｎｙ（Ｃｈｉｎａ） Ｌｉｍｉｔｅｄに１年間駐在。２０１６年～現在、東証一部上場の自動車機器メーカー法務本部主管。２０１８年より上海駐在員事務所アジア地区法務総監（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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